mtmt
Magyar Tudományos Művek Tára
XML
JSON
Átlépés a keresőbe
In English
ADVANCES IN RESIST TECHNOLOGY AND PROCESSING XXII, PT 1 AND 2
Sturtevant, JL [szerk.]
Angol nyelvű Konferenciakötet (Könyv) Tudományos
Megjelent: International Society for Optical Engineering (SPIE), Bellingham (WA), Amerikai Egyesült Államok
2005
Konferencia:
Conference on Advances in Resist Technology and Processing XXII 2005-02-28 [San Jose (CA), Amerikai Egyesült Államok]
Sorozatok:
Proceedings of SPIE 0277-786X 1996-756X
Azonosítók
MTMT: 33419972
ISBN:
0819457337
Fejezetek
Hinsberg WD et al. Evaluation of functional properties of imaging materials for water immersion lithography. (2005) Megjelent: ADVANCES IN RESIST TECHNOLOGY AND PROCESSING XXII, PT 1 AND 2 pp. 508-518
Hivatkozás stílusok:
IEEE
ACM
APA
Chicago
Harvard
CSL
Másolás
Nyomtatás
2025-04-16 21:18
×
Lista exportálása irodalomjegyzékként
Hivatkozás stílusok:
IEEE
ACM
APA
Chicago
Harvard
Nyomtatás
Másolás