Robust quantum point contact operation of narrow graphene constrictions patterned by AFM cleavage lithography

Kun, Péter [Kun, Péter (fizika), szerző] Nanoszerkezetek Laboratórium (EK / MFA); Fülöp, Bálint [Fülöp, Bálint (Fizika), szerző] Fizika Tanszék (BME / TTK / FI); Nanoelektronika Kutatócsoport (BME / TTK / FI / FT); Dobrik, Gergely [Dobrik, Gergely (mfa), szerző] Nanoszerkezetek Laboratórium (EK / MFA); Nemes-Incze, Péter [Nemes Incze, Péter (mfa), szerző] Nanoszerkezetek Laboratórium (EK / MFA); Lukács, István Endre [Lukács, István Endre (Optika, nanotechn...), szerző] Nanoérzékelők Laboratórium (EK / MFA); Csonka, Szabolcs [Csonka, Szabolcs (Kísérleti szilárd...), szerző] Fizika Tanszék (BME / TTK / FI); Nanoelektronika Kutatócsoport (BME / TTK / FI / FT); Hwang, Chanyong; Tapasztó, Levente [Tapasztó, Levente (Nanotechnológia), szerző] Nanoszerkezetek Laboratórium (EK / MFA)

Angol nyelvű Tudományos Szakcikk (Folyóiratcikk)
Megjelent: NPJ 2D MATERIALS AND APPLICATIONS 2397-7132 4 (1) Paper: 43 , 6 p. 2020
  • SJR Scopus - Chemistry (miscellaneous): D1
Azonosítók
Hivatkozás stílusok: IEEEACMAPAChicagoHarvardCSLMásolásNyomtatás
2021-03-09 03:23