ALTERNATIVE LITHOGRAPHIC TECHNOLOGIES VI

Bencher, C [szerk.]; Resnick, DJ [szerk.]

Angol nyelvű Tudományos

Megjelent: International Society for Optical Engineering (SPIE), Bellingham (WA), Amerikai Egyesült Államok 2014

Sorozatok: Proceedings of SPIE 0277-786X 1996-756X

Azonosítók

MTMT: 30892840

Fejezetek

Reboul C. et al. Self-assembly of Si-containing block copolymers with high-segregation strength: toward sub-10nm features in directed self-assembly. (2014) Megjelent: ALTERNATIVE LITHOGRAPHIC TECHNOLOGIES VI

Hivatkozás stílusok: IEEE ACM APA Chicago Harvard CSLMásolásNyomtatás

2025-04-10 20:30