Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVI

Angol nyelvű Konferenciakötet (Könyv) Tudományos

Megjelent: , San Jose (CA), Amerikai Egyesült Államok 2009

Konferencia: Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVI 2009-02-23

Sorozatok: Proceedings of SPIE 0277-786X 1996-756X, 7273

Azonosítók

MTMT: 30087473
ISBN: 9780819475268

Fejezetek

Mack CA. Stochastic Modeling in Lithography: The Use of Dynamical Scaling in Photoresist Development. (2009) Megjelent: Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVI

Hivatkozás stílusok: IEEE ACM APA Chicago Harvard CSLMásolásNyomtatás

2025-04-28 08:35