mtmt
Magyar Tudományos Művek Tára
XML
JSON
Átlépés a keresőbe
In English
Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVII
Somervell, MH [szerk.]
;
Allen, RD [szerk.]
Angol nyelvű Konferenciakötet (Könyv) Tudományos
Megjelent: International Society for Optical Engineering (SPIE), Bellingham (WA), Amerikai Egyesült Államok
2010
Konferencia:
Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVII 2010-02-22 [San Jose (CA), Amerikai Egyesült Államok]
Sorozatok:
Proceedings of SPIE 0277-786X 1996-756X, 7639
Azonosítók
MTMT: 30087469
ISBN:
9780819480538
Fejezetek
Constantoudis V et al. Evolution of resist roughness during development: Stochastic simulation and dynamic scaling analysis. (2010) Megjelent: Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVII
Schwartz Evan L. et al. New self-assembly strategies for next generation lithography. (2010) Megjelent: Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVII
Hivatkozás stílusok:
IEEE
ACM
APA
Chicago
Harvard
CSL
Másolás
Nyomtatás
2025-04-11 23:32
×
Lista exportálása irodalomjegyzékként
Hivatkozás stílusok:
IEEE
ACM
APA
Chicago
Harvard
Nyomtatás
Másolás