Advances in Resist Materials and Processing Technology XXIX

Angol nyelvű Konferenciakötet (Könyv) Tudományos

Megjelent: , San Jose (CA), Amerikai Egyesült Államok 2012

Konferencia: Advances in Resist Materials and Processing Technology XXIX 2012-02-13

Sorozatok: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering, 8325

Azonosítók

MTMT: 30087467
ISBN: 9780819489814

Fejezetek

Mack CA. Correlated surface roughening during photoresist development. (2012) Megjelent: Advances in Resist Materials and Processing Technology XXIX

Hivatkozás stílusok: IEEE ACM APA Chicago Harvard CSLMásolásNyomtatás

2025-04-17 11:13